developingtime1 포토, 식각 후(PR 제거 후) 패턴이 사라지는 이유 포토 공정, 식각 공정을 마친후 PR strip을 했는데 패턴이 사라진 이유(패턴이 안보이는 이유)에 대해서 알아 보도록 하겠습니다. 포토 공정에서 HMDS를 입히고 PR을 도포하고 soft bake, 노광, hard bake, developing까지 마친후 Inspection하면 패턴이 보였을 겁니다. 하지만 식각공정을 하고 PR까지 제거 하였는데 갑자기 Inspection때 보였던 패턴이 사라졌다면 어떤 이유에서 보이지 않고 웨이퍼가 깨끗해 졌는지 생각해 보도록 합시다. 이유는 몇가지가 있는데 하나씩 살펴보죠. 1. 불충분한 노광 시간 (Insufficient exposure time) 가장 유력한 원인이죠. PR에 UV를 비추는 시간이 짧으면 PR구조가 안쪽(SiO2) 바로위 까지 파괴가 안되고 패.. 2023. 4. 15. 이전 1 다음